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티타늄 스퍼터링 타겟
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티타늄 스퍼터링 타겟

티타늄 스퍼터링 타겟

Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd.에서는 긴 사용 수명, 균일한 침식 및 일관된 필름 성능을 위해 설계된 고순도 티타늄 타겟을 얻을 수 있습니다.

고순도 티타늄 스퍼터링 타겟

 

반도체, 광학 또는 산업용 코팅을 위한 안정적인 고성능{0}박막이 필요한 경우 스퍼터링 타겟 품질이 모든 것을 결정합니다.


Ti 스퍼터링 타겟은 순수 티타늄, TiN, TiAlN 및 기능성 티타늄- 기반 필름을 기판에 증착하기 위해 마그네트론 스퍼터링(PVD)에 사용되는 주요 소스 재료입니다.

Ti Sputtering Targets

Ti 타겟명세서

사양

재료

상업적으로 순수한 티타늄(1등급, 2등급) 또는 티타늄 합금

청정

반도체용 3N5(99.95%), 4N(99.99%), 4N5(99.995%), 5N(99.999%)

밀도

4.51g/cm³ 이상

불순물 관리

Fe, Cr, Ni, O, N, C, H(순도 등급에 따라 관리)

모양

원형, 직사각형, 회전식(원통형), 맞춤형 프로파일

크기

Ø50 – Ø300 mm, 두께 3–10 mm, 길이: 4000 mm

본딩 옵션

구리 또는 알루미늄 백킹 플레이트, 기계식 클램핑, 모놀리식

표면 마감

기계 가공, 샌드블래스트 처리, 광택 처리, 산-세척, 진공 포장

 

선택할 수 있는 Ti 스퍼터링 타겟 유형

 

아니요.

재료

구성

주요 특징

일반적인 응용 분야

1

CP 티타늄(Gr1/Gr2)

99.5% Ti 이상

낮은 불순물, 안정적인 스퍼터링

전자제품, 장식 코팅

2

고순도 티타늄(4N/5N)

99.99% Ti 이상

매우-깨끗한 필름

반도체, 광학 코팅

3

Ti-6Al-4V 타겟

Ti-6Al-4V

합금막 증착, 고강도

기능성 및 구조용 코팅

4

TiAl / TiAl₃ 타겟

30~50% 알루미늄

TiAlN 초{0}}하드 코팅 생산

절삭 공구, 금형

5

TiN 세라믹 타겟

티타늄 + N

금{0}}유색 TiN 필름 증착

내마모성, 장식 코팅

6

TiSi₂ 타겟

Ti:Si ≒ 1:2

저저항 규화물막

반도체 접점 및 게이트

 

티타늄 타겟이 제조되는 방법

 

Vacuum Melting

 

01

진공 용해

가스 및 금속 불순물 제거

HIP

 

02

열간 등압 성형(HIP)

내부 기공을 제거하고 밀도를 향상시킵니다.

CNC Precision Machining

 

03

CNC 정밀 가공

치수 정확성과 평탄도 보장

Packaging

 

04

울트라-클린 포장

진공 또는 질소 밀봉으로 산화 및 오염 방지

이를 통해 항상 높은 -밀도, 낮은-입자 및 안정적인 스퍼터링 성능을 얻을 수 있습니다.

 

주문 시 지정해야 할 사항

 

필요한 정확한 목표를 얻으려면 다음을 제공하십시오.

  1. 재질 및 등급(Ti 99.99%, Ti-6Al-4V, TiAl 등)
  2. 모양(원형, 직사각형, 회전식, 맞춤형)
  3. 크기 및 공차(직경 × 두께 또는 길이 × 폭 × 두께)
  4. 필수 순도 및 불순물 한도
  5. 표면 청소 및 포장
  6. 수량 및 목표 납기일
  7. 스퍼터링 시스템 모델 및 애플리케이션

 

자주 묻는 질문

1. ti 스퍼터링 타겟의 배송 시간은 얼마나 됩니까?

표준 크기: 2주 이내 배송

맞춤형 목표: 크기, 순도, 결합 방법에 따라 2~4주

2. 티타늄 스퍼터링 타겟을 맞춤 설정할 수 있나요?

예. 다음을 포함하여 대상을 완전히 사용자 정의할 수 있습니다.

  • 치수 및 두께
  • 순도 및 합금 조성
  • 표면 마감 및 청소 수준
  • 백킹 플레이트 또는 장착 방법

3. 티타늄 타겟이 사용되는 곳

  • 반도체: 도전층, IC 콘택트 필름
  • 광학 코팅: 반사 방지 및 장식 필름-
  • 산업용 PVD 코팅: TiN, TiAlN, 내마모성-층
  • 자동차, 항공우주 및 에너지: 고성능-기능성 코팅

신뢰할 수 있는 제조업체로부터 티타늄 스퍼터링 타겟을 구입하세요

 

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