고순도 티타늄 스퍼터링 타겟
반도체, 광학 또는 산업용 코팅을 위한 안정적인 고성능{0}박막이 필요한 경우 스퍼터링 타겟 품질이 모든 것을 결정합니다.
Ti 스퍼터링 타겟은 순수 티타늄, TiN, TiAlN 및 기능성 티타늄- 기반 필름을 기판에 증착하기 위해 마그네트론 스퍼터링(PVD)에 사용되는 주요 소스 재료입니다.

Ti 타겟명세서
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목 |
사양 |
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재료 |
상업적으로 순수한 티타늄(1등급, 2등급) 또는 티타늄 합금 |
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청정 |
반도체용 3N5(99.95%), 4N(99.99%), 4N5(99.995%), 5N(99.999%) |
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밀도 |
4.51g/cm³ 이상 |
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불순물 관리 |
Fe, Cr, Ni, O, N, C, H(순도 등급에 따라 관리) |
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모양 |
원형, 직사각형, 회전식(원통형), 맞춤형 프로파일 |
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크기 |
Ø50 – Ø300 mm, 두께 3–10 mm, 길이: 4000 mm |
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본딩 옵션 |
구리 또는 알루미늄 백킹 플레이트, 기계식 클램핑, 모놀리식 |
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표면 마감 |
기계 가공, 샌드블래스트 처리, 광택 처리, 산-세척, 진공 포장 |
선택할 수 있는 Ti 스퍼터링 타겟 유형
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아니요. |
재료 |
구성 |
주요 특징 |
일반적인 응용 분야 |
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1 |
CP 티타늄(Gr1/Gr2) |
99.5% Ti 이상 |
낮은 불순물, 안정적인 스퍼터링 |
전자제품, 장식 코팅 |
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2 |
고순도 티타늄(4N/5N) |
99.99% Ti 이상 |
매우-깨끗한 필름 |
반도체, 광학 코팅 |
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3 |
Ti-6Al-4V 타겟 |
Ti-6Al-4V |
합금막 증착, 고강도 |
기능성 및 구조용 코팅 |
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4 |
TiAl / TiAl₃ 타겟 |
30~50% 알루미늄 |
TiAlN 초{0}}하드 코팅 생산 |
절삭 공구, 금형 |
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5 |
TiN 세라믹 타겟 |
티타늄 + N |
금{0}}유색 TiN 필름 증착 |
내마모성, 장식 코팅 |
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6 |
TiSi₂ 타겟 |
Ti:Si ≒ 1:2 |
저저항 규화물막 |
반도체 접점 및 게이트 |
티타늄 타겟이 제조되는 방법

01
진공 용해
가스 및 금속 불순물 제거

02
열간 등압 성형(HIP)
내부 기공을 제거하고 밀도를 향상시킵니다.

03
CNC 정밀 가공
치수 정확성과 평탄도 보장

04
울트라-클린 포장
진공 또는 질소 밀봉으로 산화 및 오염 방지
이를 통해 항상 높은 -밀도, 낮은-입자 및 안정적인 스퍼터링 성능을 얻을 수 있습니다.
주문 시 지정해야 할 사항
필요한 정확한 목표를 얻으려면 다음을 제공하십시오.
- 재질 및 등급(Ti 99.99%, Ti-6Al-4V, TiAl 등)
- 모양(원형, 직사각형, 회전식, 맞춤형)
- 크기 및 공차(직경 × 두께 또는 길이 × 폭 × 두께)
- 필수 순도 및 불순물 한도
- 표면 청소 및 포장
- 수량 및 목표 납기일
- 스퍼터링 시스템 모델 및 애플리케이션
자주 묻는 질문
1. ti 스퍼터링 타겟의 배송 시간은 얼마나 됩니까?
표준 크기: 2주 이내 배송
맞춤형 목표: 크기, 순도, 결합 방법에 따라 2~4주
2. 티타늄 스퍼터링 타겟을 맞춤 설정할 수 있나요?
예. 다음을 포함하여 대상을 완전히 사용자 정의할 수 있습니다.
- 치수 및 두께
- 순도 및 합금 조성
- 표면 마감 및 청소 수준
- 백킹 플레이트 또는 장착 방법
3. 티타늄 타겟이 사용되는 곳
- 반도체: 도전층, IC 콘택트 필름
- 광학 코팅: 반사 방지 및 장식 필름-
- 산업용 PVD 코팅: TiN, TiAlN, 내마모성-층
- 자동차, 항공우주 및 에너지: 고성능-기능성 코팅
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